占豪:重大突破!中国光刻机问世,价格只是国外产品2%!


2018年12月03日  浏览(7749)人

过去,一说芯片落后,我们就会说我们有一样东西没有,没办法突破,所以会一直受制于人。在今年中美贸易战打响后,很多人就是拿这个东西来反驳占豪,说如果美国在芯片上限制了中国,中国就如何如之何。当时占豪的回答是,如果中美真的贸易战打到那个程度,中美撕破脸了,那么直接拿下台湾即可,台湾有全球最大的芯片制造商,苹果的芯片都是在那生产的。

不过,占豪认为中美贸易战打不到那个程度,而且中国的光刻机应该说不遥远了。结果,没想到,这才几个月,中国的光刻机就面世了。媒体报道,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目今天在成都通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10纳米级别的芯片。光刻机作为半导体芯片的“母机”,在半导体制造行业的作用不亚于高精度机床在机械加工领域。它对于我国半导体产业而言,是一个重大的突破。


图注:超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品

为什么很多国家不愿意卖给我们相关装备,原因就是一旦卖给中国,中国就能造出来,所以发达国家往往都喜欢对中国技术保密。但是,保密也没用,中国自己努力也会搞出来,而且一旦搞出来就把相关产品搞成白菜价。这一次也不例外。光刻机,ASML的193nm光刻机售价在7000万美元以上,EUV光刻机售价在1亿欧元以上,中科院的这套光刻机才多少钱呢?一两千万人民币,简直白菜价!当然,由于基数体系不同,国产光刻机现在还取代不了ASML的光刻机,但我们有了这个装备之后,对方就要承受压力了,而且如果再不卖产品给我们,我们搞出来得更快,那么他们以后想卖我们还不买了。而且以后可能会面临我们的强大竞争压力。

那么,我们的光刻机是什么时候开始研发的呢?来自中科院官方的消息报道,中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说,2012年,该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工。

看看,我们已经搞了七年了!这7年让我们开始迫近对手,未来随着时间推移我们的进步会更快!所以说,想遏制中国,怎么可能?遏制来遏制去,我们啥都有了!

所以,我们根本不怕他们,不怕美国打贸易战,我们有足够的底气!如果一定要逼中国,那只能获得更大的反弹力。对其他国家来说,中国既然是遏制不住的,那么最好的方式就是合作。譬如,那些造光刻机的,赶紧与中国进行技术合作,共同成立公司开发中国市场就是最明智选择。譬如,英国ARM公司是全球领先的半导体知识产权 (IP) 提供商为了中国市场就和中国成立了合资公司。

这个世界是合作的,合作才能共赢!




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