美国造不出的DUV光刻机，中国造出来了。

上海初创公司“宇量昇”，实现了国产首台28纳米DUV光刻机的突破。中芯国际已经与宇量昇达成合作，成功完成了设备测试。别看它明面上是28纳米技术，实际通过多重曝光工艺，能生产7纳米，甚至5纳米芯片。宇量昇公司成立才三年，怎么就完成了中国芯片产业史诗级的突破？国产DUV光刻机一旦正式投产，对中美意味着什么？

国产DUV的突破，对中美至少有着三大意义：

一是，美国对华芯片封锁战略，注定失败。高端芯片一直是美国对华施压的关键筹码。像阿斯麦的先进光刻机，英伟达的高端AI芯片，全都被禁止对华出售。

很多人可能以为，美国锁死了光刻机与高端芯片，中国科技发展就很难突破了。实际不是那么回事，国产芯片需求大头，是28纳米以下的成熟制程。中国不仅能做到自给自足，还能大量出口，2024年出口金额突破万亿元大关。

现在国产DUV突破，芯片制程推进到5纳米，进一步“芯片自由”了。像手机、车机、AI乃至军工芯片，九成以上的芯片需求，都能实现国产化替代。美国所谓的封锁战略，很难再成为施压中国的筹码了。

要不了几年，我们会像现在听到国产DUV突破一样，突然见证国产EUV光刻机落地的历史时刻。

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