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国产DUV光刻机问世!


2024年09月15日  浏览(3856)人
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9月9日,中国工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,里面的氟化氪光刻机照明波长248nm、套刻精度⩽25nm,氟化氩光刻机光源193纳米,套刻≤8nm。这里有3点值得注意:其一,传统DUV光刻机,其光源为193纳米或248纳米,中国问世的这两型光刻机符合此条件,应该就是我们通常所说的DUV光刻机,只是官方没采用“DUV光刻机”这种说法。其二,这两种光刻机已经开始“推广应用”,意味着它们不是实验室样品,而是成熟产品,并且是拥有自主知识产权的国产光刻机。其三,氟化氩光刻机的套刻精度小于8nm,结合我们的多重曝光技术,有可能能做7nm、5nm芯片。上述三点是作者的个人看法,如果理解的没有偏差,意味着中国DUV光刻机已正式问世,这将是具有里程碑意义的重大事件。到这里,就不得说一些人真是惨遭打脸:首先,是美国荷兰遭到光速打脸美国一直在死卡中国芯片与光刻机,先是卡DUV与先进芯片、后是EUV与高端芯片,如今要求荷兰连售与中国的光刻机的售后都别做了,想用此手段让所有中国光刻机趴窝,让中国无法生产芯片。结果荷兰在9月6日宣布,中国9月9日就宣布了自家DUV光刻机问世,并且看上述图片里的成文日期是在9月2日。很可能是我们早就知道了对方的动作,早就把文案写好了,就等着对方宣布后,我们立马官宣。美国与荷兰ASML,成功给自己逼出了一个强大对手。其次……




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