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中美芯片战,轻舟已过万重山(中)!


2023年09月20日 
我们拿媒体上算是相对非常专业的一篇文章来分析一下它错在哪里,以此使人们对什么是真正的技术有更清晰的了解。2021-07-3006:40·Jim博士在今日头条上发表的“解读国产光刻机困局(九):哈工大的EUV光刻机光源”。该文原文的链接附在本文最后[10]。为什么说这篇文章还算是非常专业的呢?因为该文作者的确深入研究了哈工大在DPP-EUV光源上的论文、专利,说话和判断都是有确切出处的。该文的基本结论是什么?主要是以下几个:第一,2018年12月哈工大论文中13.5nm放电Xe等离子体极紫外光源(DPP-EUV光源)的输出功率只有0.1W(有论文截图为证),实际上掌握的只是十年前(1998年)美国Klosner研究组的DPP技术。早在2003年,Xtreme公司利用Xe气在频率1kHz条件下放电,研发出了XTS13-35DPP极紫外光源样机,该样机在2π立体角内获得35W极紫外辐射功率。当前ASML的LPP-EUV光源的输出功率为500W。以此功率比较来显示哈工大在EUV光源技术上落后的程度。并且该文在一开始还搞了一个投票,要读者去猜测哈工大的DPP-EUV光源输出功率是多少,从0.1W到200W给了五个选择。第二,02专项依然以最落后的Xe气等离子体DPP技术作为攻关课题,这只是第一代的EUV光源,而现在已经在发展的是第四代。第三,大多数技术仅仅停留在2000-2005年这一个时间节点上,也就是说,我们并没有开展任何EUV光刻机产业化的组织和能力。以上说法有道理吗?当然有道理了,他在文章中全是直接引用哈工大的研究论文和专利,而不是一般的媒体文章连消息来源都没有。后面还很专业地给出了9个参考文献的链接。这个文章作者以博士自称,仅从文章本身写作的专业素养来看,自称博士应当算是名符其实的。但是,我想告诉读者的是:这个作者只能算初懂技术,尤其是对中国的技术发展和科技发展一般规律理解很浅,尤其在实验室里待的时间很有限。首先分析下为什么中国能以技术发展方向上极弱的判断能力,却在技术方向的把握上几乎从来不会出错的原因。道理很简单,因为中国有规模优势,所以往往采用的策略是不做技术方向的判断,或只做很浅的判断,排除明显不适合的技术路线,然后其他剩下的所有方向全都安排人去低成本跟踪。最后让市场去选择最正确的技术方向。这使得中国在技术方向的把握上几乎从来不会出错,尤其不会错过任何发展的机会。一般人只是看到我们搞成功了的东西,还有很多没


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