毛主席曾在《别了，司徒雷登》中说：“多少一点困难怕什么。封锁吧，封锁十年八年，中国的一切问题都解决了。”美国为首的西方封锁过我们，苏联封锁过我们，中国在他们的封锁下没有倒下，反而越来越强，一直到现在呈现不可挡的复兴之势。然而，在这种时候，美国依然没有吸取历史教训，再次对中国发起技术封锁，在包括芯片制造领域卡中国的脖子。就像毛主席说的那样，中国人不怕困难，封锁十年八年，中国的一切问题都解决了。在这种大背景下，就在过去的几天，中国有了两大技术突破：一、单晶纳米铜智能加工生产线投产据央视新闻客户端10月2日报道，国内首条单晶纳米铜智能加工生产线在温州平阳投产。这标志着芯片制造关键材料——单晶纳米铜——实现国产化量产。我们都知道，芯片制造有很多环节，每一个环节都涉及到高精尖技术，但我们主要受三大技术的限制：一是光刻机，二是芯片设计用的EDA软件，三是制造芯片用的原材料。美国正是抓住了中国的这些短板，最终卡得华为无法再进行芯片代工的制造。所以，中国要想在芯片上实现突破，必须要在这三个方面都获得突破。在光刻机方面，上海微电子的28nm光刻机年底就将下线，14nm也在突破当中，由此可见中国在光刻机领域正在突飞猛进。EDA软件国家也在加大投资，相信不久也会突破。至于用于芯片制造的……

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